Metprep™和DualPrep™研磨和带ph™电源线的抛光机, 头部是半自动的强大系统操作，适用于低至高容量样品准备要求。

种类繁多组合提供了理想的解决方案
容纳任何实验室、应用程序或材料。
直观的菜单导航，用户友好触摸板接口和背光LCD使它们易于使用和编程。

微处理器基于系统最多允许25个可编程步骤，
包括压盘速度、压缩机参数/反向旋转（样品架/压板），循环时间，转速、水冲洗和力降低（ON/OFF，%）。
“程序开发”模式允许进行中调整压盘速度、样品力和样品旋转速度以确定最佳参数。

点动模式启用方便的变量
在不启动电源的情况下加速压板旋转允许对布料或手动进行初始功能头打磨/抛光。
可使用标准或磁性压盘。
包含任何普通/粘性背衬或磁性系统圆盘。